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                K-speed 等離子體刻蝕工藝模擬軟件簡介♀

                一、K-SPEED介紹

                二、公司簡介

                三、開放思維

                1.半導體制≡造中HARC工藝的新挑戰

                四、研發團隊

                五、K-SPEED優勢

                • 簡單的GUI ,基於用戶反饋優化設計
                • 完全的碳氟化》合物混合氣體化學性質深度刻蝕(C4F6/C4F8/CH2F2/Ar/O2)
                -可靠性已得到三星和SK-海力士驗證⊙
                • 快速的求解時間
                -基於CPU的化學反應計♂算
                -基於GPU的彈道輸運

                -其他先進技★術的應用…

                六、圖形用戶界面GUI

                七、批量等離子體仿真簡介

                1.批量等〓離子體仿真範疇

                2.零維≡批量等離子體仿真——K-0DPLASMA

                3.K-0DPLASMA軟件射〓頻鞘層模型與脈沖放電

                4.等離子體數據庫

                5.等離子體診斷▲和K-0DPLASMA數據庫

                八、三維特征輪廓仿真研發

                1.等離子體處理中三維特征輪廓仿真

                2.三維特征輪廓仿真之納米級中性粒子輸運

                3.彈道森林輸運模塊的GPU計算方法

                4.三維ξ 特征輪廓仿真之表面反應

                九、案例

                1.氟碳/氬/氧/電容耦合 等離子體

                2.氟碳化卐合物/氬/氧氣電容耦合等離子掩模刻蝕圖形化

                3.大面積等離子體刻蝕仿真

                4.氧化刻蝕自↘停止&連續氮化物刻蝕

                5.等離子體充電殺了他之后模擬

                6.脈沖式氟碳等否則離子氧化刻蝕

                7.晶圓邊緣輪廓傾斜

                8.MTJ材料等離子刻蝕模擬

                9.Bosch的等離子處理挑戰

                10.等而找到主陣眼離子體局部加載刻蝕模擬


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